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        这个新技术，也就是intel、三星、台积电，都在等着euv极紫外光刻技术。采用波长13.5n的极紫外光为工作波长的投影光刻技术

        因为更高的精度，可以大大减少工艺流程和复杂度。

        所以如果euv光刻技术能够成熟，并且投入量产，芯片的生产时间，将会大幅缩短，产品良率也会提高很多。

        按照现在的预计，使用euv技术的工厂，最快可以做到20多天出厂，时间只有传统光刻技术的四分之一。

        但是目前evu技术并没有成熟，仍然有多个关键问题没有解决。

        intel、三星、台积电半导体三巨头，投了巨额资金，给全球顶级的光刻机厂家asl，用来开发euv技术，以期维持半导体行业的持续发展。

        euv技术是延续摩尔定律，让7n、5n工艺，成功量产的希望。

        而且，euv技术，也是东华国内半导体制作技术，实现弯道超车的机会，超越国际的难得机会。

        在传统工艺上，东华已经难以超过西方了，即便是超过，也马上就要过时，只能用来生产低级芯片。

        东华在上个世纪九十年代，就开始进行euv相关方面的研究。

        2002年，研制出国内第一套euv极紫外光刻原理装置。

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